ヘレウス Epurio は、新しいクリティカルレイヤー開発用のUPグレードから、コストと量産性が重要な要素となるPR、BARC、ハードマスク用途などのハイエンドメモリおよびロジックチップ関連のフォトマテリアルまで、立体障害基を有する多数のモノマーを開発し、量産化しました。

半導体産業に不可欠な製品であるモノマーは、フォトレジスト溶液用のカスタムポリマーの製造に使用されます。ヘレウスは、ポリアクリレートベースの重要な層レジストを製造に貢献する長い歴史を持っています。また、立体障害基を持つさまざまなモノマーを、お客様と共同で開発し、スケールアップしてきました。

新規のクリティカルレイヤー開発用の超高純度グレードから、パッケージングや厚膜レジスト用途まで、当社はあらゆる製品を取り揃えています。当社は常にコストと供給量に着目しています。当社はお客様と非常に緊密な関係を築いており、お客様の成長と規模に関するニーズを常に把握しています。

当社の特注モノマーを使用すれば、お客様は独自の配合に関する知的財産権を保持することも可能です。

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