Photo Acid Generators (PAGs)

1969年に人類を初めて月に送るのに利用されたコンピューティングパワーは、今日、私たちがスマートフォンで利用しているものよりも小さいものでした。この驚くべき進歩は、マイクロチップの小型化と半導体の絶え間なく進化するコンピューティングパワーによって可能になりました。

ワイヤレス接続の増加、自動車の高度な機能、モノのインターネット化は、最高水準の要件を満たす半導体に対する需要の高まりを反映しています。超高純度特殊化学品は、メモリおよびロジックチップの製造において重要な層を形成するフォトリソグラフィープロセスで使用される基本的な原材料です。

ヘレウス Epurio は、30年以上にわたり電子グレードの感光性材料を製造しています。 厳選したクロモフォアと好適な酸を組み合わせ、最高解像度のクリティカルレイヤーレジスト用にユニークな製品を提供しています。

これらの製品のほとんどは、純度99.5%以上、26種類の金属含有量がいずれも10ppb以下のUP品質で入手可能です。これにより、従来の化学品でもレジスト解像度の新たな領域を開拓することが可能になります。

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35 検索結果

Name
Technology
Product Type
Description
DTBPIO-C1Deep UVPAGStrong acid(C1) generation m.p. 104–105°C
DTBPIO-CSDeep UVPAG, PFAS-Free PAGWeak acid (camphorsulfonic acid) generation m.p. 215–217°C
DTBPIO-NfDeep UVPAGLow diffusion strong acid(nonaflic acid) generation m.p. 175–177°C
DTBPIO-TFMBSDeep UVPAGWeak acid (o-trifluoromethylbenzenesulfonic acid) generation m.p. 162–164°C
HTPG-104Si-linePAG, PFAS-Free PAGWhite powder Strong acid (HCI) generation m.p. 143–145°C
ILP-110i-linePAGLight-yellow powder Strong acid(triflic acid) generation m.p. 113–114°C
ILP-110Ni-linePAGLow diffusion strong acid (nonaflic acid) generation m.p. 122–124°C
ILP-113I, h-line broadbandPAGYellow powder Strong acid (triflic acid) generation m.p. 125–126°C
ILP-118i-linePAGLight-yellow powder Strong acid(triflic acid) generation m.p. 66–68°C
MDTDeep UVPAGWhite powder Strong acid (triflic acid) generation m.p. 88–89°C
NINi-linePAGWhite crystalline powder. Low diffusion Strong acid(nonaflic acid) generation m.p. 148.5–149.5°C
NITi-linePAGWhite powder Strong acid(triflic acid) generation m.p. 210–214°C
PA-229Deep UVPAGWhite powder Low diffusion strong acid (nonaflic acid) generation m.p. 54–56°C
PA-253ArFPAGStrong acid generation m.p. 128–129°C
PA-255ArFPAGStrong acid generation m.p. 93-95°C
PA-279ArFPAGStrong acid generation m.p. 143-145°C
PA-296Deep UVPAGStrong acid(N3) generation m.p. 159-161°C
PA-298i-linePAG, PFAS-Free PAGYellow powder Weak acid(tosylic acid) generation m.p. 130–131°C
PA-304Deep UVPAGStrong acid(C1) generation m.p. 130–131°C
PA-313ArFPAGStrong acid generation m.p. 129–130°C