1969年に人類を初めて月に送るのに利用されたコンピューティングパワーは、今日、私たちがスマートフォンで利用しているものよりも小さいものでした。この驚くべき進歩は、マイクロチップの小型化と半導体の絶え間なく進化するコンピューティングパワーによって可能になりました。
ワイヤレス接続の増加、自動車の高度な機能、モノのインターネット化は、最高水準の要件を満たす半導体に対する需要の高まりを反映しています。超高純度特殊化学品は、メモリおよびロジックチップの製造において重要な層を形成するフォトリソグラフィープロセスで使用される基本的な原材料です。
ヘレウス Epurio は、30年以上にわたり電子グレードの感光性材料を製造しています。 厳選したクロモフォアと好適な酸を組み合わせ、最高解像度のクリティカルレイヤーレジスト用にユニークな製品を提供しています。
これらの製品のほとんどは、純度99.5%以上、26種類の金属含有量がいずれも10ppb以下のUP品質で入手可能です。これにより、従来の化学品でもレジスト解像度の新たな領域を開拓することが可能になります。
35 検索結果
Name | Technology | Product Type | Description | |
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DTBPIO-C1 | Deep UV | PAG | Strong acid(C1) generation m.p. 104–105°C | |
DTBPIO-CS | Deep UV | PAG, PFAS-Free PAG | Weak acid (camphorsulfonic acid) generation m.p. 215–217°C | |
DTBPIO-Nf | Deep UV | PAG | Low diffusion strong acid(nonaflic acid) generation m.p. 175–177°C | |
DTBPIO-TFMBS | Deep UV | PAG | Weak acid (o-trifluoromethylbenzenesulfonic acid) generation m.p. 162–164°C | |
HTPG-104S | i-line | PAG, PFAS-Free PAG | White powder Strong acid (HCI) generation m.p. 143–145°C | |
ILP-110 | i-line | PAG | Light-yellow powder Strong acid(triflic acid) generation m.p. 113–114°C | |
ILP-110N | i-line | PAG | Low diffusion strong acid (nonaflic acid) generation m.p. 122–124°C | |
ILP-113 | I, h-line broadband | PAG | Yellow powder Strong acid (triflic acid) generation m.p. 125–126°C | |
ILP-118 | i-line | PAG | Light-yellow powder Strong acid(triflic acid) generation m.p. 66–68°C | |
MDT | Deep UV | PAG | White powder Strong acid (triflic acid) generation m.p. 88–89°C | |
NIN | i-line | PAG | White crystalline powder. Low diffusion Strong acid(nonaflic acid) generation m.p. 148.5–149.5°C | |
NIT | i-line | PAG | White powder Strong acid(triflic acid) generation m.p. 210–214°C | |
PA-229 | Deep UV | PAG | White powder Low diffusion strong acid (nonaflic acid) generation m.p. 54–56°C | |
PA-253 | ArF | PAG | Strong acid generation m.p. 128–129°C | |
PA-255 | ArF | PAG | Strong acid generation m.p. 93-95°C | |
PA-279 | ArF | PAG | Strong acid generation m.p. 143-145°C | |
PA-296 | Deep UV | PAG | Strong acid(N3) generation m.p. 159-161°C | |
PA-298 | i-line | PAG, PFAS-Free PAG | Yellow powder Weak acid(tosylic acid) generation m.p. 130–131°C | |
PA-304 | Deep UV | PAG | Strong acid(C1) generation m.p. 130–131°C | |
PA-313 | ArF | PAG | Strong acid generation m.p. 129–130°C |