厚膜レジストの需要の高まりに伴い、ポストベーク時の最終硬化を可能にするために、熱酸発生剤を含有する配合がますます増えています。
ヘレウス社からは、異なる酸放出温度を持つIPフリーの製品群が提供されています。最終用途では、半導体グレードの純度と適切なコストが必須です。
3 検索結果
Name | Technology | Product Type | Description | |
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TA-101 | Multi-layer photo-lithographic application | Thermal Acid Generators | White powder 4.5% (w/w) in PGMEA m.p. 101–102°C | |
TA-102 | Multi-layer photo-lithographic application | Thermal Acid Generators | White powder 2.5% (w/w) in PGMEA m.p. 126–127°C | |
TA-103 | Multi-layer photo-lithographic application | Thermal Acid Generators | White powder 5% (w/w) in PGMEA m.p. 101–102°C |