熱酸発生剤

厚膜レジストの需要の高まりに伴い、ポストベーク時の最終硬化を可能にするために、熱酸発生剤を含有する配合がますます増えています。

ヘレウス社からは、異なる酸放出温度を持つIPフリーの製品群が提供されています。最終用途では、半導体グレードの純度と適切なコストが必須です。

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Name
Technology
Product Type
Description
TA-101Multi-layer photo-lithographic applicationThermal Acid GeneratorsWhite powder 4.5% (w/w) in PGMEA m.p. 101–102°C
TA-102Multi-layer photo-lithographic applicationThermal Acid GeneratorsWhite powder 2.5% (w/w) in PGMEA m.p. 126–127°C
TA-103Multi-layer photo-lithographic applicationThermal Acid GeneratorsWhite powder 5% (w/w) in PGMEA m.p. 101–102°C