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  2. 製品セレクター:半導体用化学品

製品セレクターで、ニーズに最適な電子化学品を見つけましょう。

最適なパフォーマンスを確保するためには、適切な電子化学品を選択することが不可欠です。お客様の要件を理解し、用途を考慮し、品質と信頼性を優先することで、お客様のニーズに最も適した電子化学品を自信を持って選択することができます。当社の製品セレクターは、お客様が十分な情報に基づいて決定を下すお手伝いをします。また、当社の専門家が貴重な洞察やガイダンスを提供することも可能です。

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Name
Technology
Product Type
Description
9-AMM Multi-layer photo-lithographic applicationMonomersYellow powder m.p. 86–88°C
DTBPIO-C1Deep UVPAGStrong acid(C1) generation m.p. 104–105°C
DTBPIO-CSDeep UVPAG, PFAS-Free PAGWeak acid (camphorsulfonic acid) generation m.p. 215–217°C
DTBPIO-NfDeep UVPAGLow diffusion strong acid(nonaflic acid) generation m.p. 175–177°C
DTBPIO-TFMBSDeep UVPAGWeak acid (o-trifluoromethylbenzenesulfonic acid) generation m.p. 162–164°C
ECHAMulti-layer photo-lithographic applicationMonomersColourless liquid
HAdMAMulti-layer photo-lithographic applicationMonomersWhite powder m.p. 89–91°C
HTPG-104Si-linePAG, PFAS-Free PAGWhite powder Strong acid (HCI) generation m.p. 143–145°C
HTPI-405i-linePFAS-Free PAG, Photo-initiatorsWeak acid generation m.p. 86-88°C
HTPI-4057i-linePFAS-Free PAG, Photo-initiatorsWeak acid generation m.p. 56-58°C
HTPI-429i-linePFAS-Free PAG, Photo-initiatorsWeak acid generation m.p. 71-74°C
ILP-110i-linePAGLight-yellow powder Strong acid(triflic acid) generation m.p. 113–114°C
ILP-110Ni-linePAGLow diffusion strong acid (nonaflic acid) generation m.p. 122–124°C
ILP-113I, h-line broadbandPAGYellow powder Strong acid (triflic acid) generation m.p. 125–126°C
ILP-118i-linePAGLight-yellow powder Strong acid(triflic acid) generation m.p. 66–68°C
MAdMAMulti-layer photo-lithographic applicationMonomersColourless liquid
MDTDeep UVPAGWhite powder Strong acid (triflic acid) generation m.p. 88–89°C
MNLMAMulti-layer photo-lithographic applicationMonomersWhite powder m.p. 74~77°C
NINi-linePAGWhite crystalline powder. Low diffusion Strong acid(nonaflic acid) generation m.p. 148.5–149.5°C
NITi-linePAGWhite powder Strong acid(triflic acid) generation m.p. 210–214°C